前ASML首席科学家林楠推动中国最新EUV技术突破 | 南华早报

中国科研团队通过构建达到国际竞争参数的极紫外（EUV）光源平台，突破了高端芯片国产化的技术壁垒，研究论文显示。该团队来自中国科学院上海光学精密机械研究所，由前荷兰ASML公司光源技术负责人林楠领衔。

ASML作为全球唯一能生产EUV光刻机的企业（该设备对制造7纳米以下芯片至关重要），自2019年起在美国施压下被禁止向中国出售最先进机型。ASML首席执行官克里斯托弗·富凯在4月16日与投资者的电话会议中表示：“中国虽然可能实现极紫外光生成，但要造出EUV光刻机仍需耗费许多年时间。”

林楠2021年响应国家海外高层次人才引进计划回国，创建了负责此项研究的先进光刻技术课题组。

在加入ASML前，林楠曾受教于2023年诺贝尔物理学奖得主、瑞典皇家科学院院士安妮·吕利耶，其研究获得欧盟玛丽·居里学者计划资助。