中微公司董事长尹志尧：希望五到十年，覆盖60%以上的半导体高端设备_风闻

本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）综合

现在中微只需要约18个月就可以开发一个新产品，进入市场半年到一年就可以量产。

5月27日，半导体设备龙头中微公司于上海临港召开了2024年度及2025年第一季度业绩说明会，并于会后召开了媒体见面会。

数据显示，中微公司2024年实现营业收入90.65亿元，同比增长44.73%，保持了近四年营收年均增幅大于40%；归属于上市公司股东的扣非净利润约13.88亿元，同比增长16.51%，主营业务盈利能力持续提升。2025年一季度，公司业绩延续高增长态势。

中微公司2024年LPCVD（低压化学气相沉积）设备实现首台销售。在研项目中，也有PECVD（等离子化学气相沉积）和ALD（原子层沉积）设备研发。一直以来，中微公司主营业务以等离子体刻蚀机为代表，薄膜设备也主要以泛半导体的MOCVD（金属有机化合物化学气相沉积）设备为主。

关于中微公司薄膜沉积设备业务的成长性，中微公司董事长尹志尧对记者表示：“目前，薄膜设备相关的收入体量还不大，但是公司已经在全面布局并加速开发更多产品。我相信三到五年内，薄膜设备收入将快速增长。”

积极拓展薄膜设备

半导体前道设备中，刻蚀和薄膜设备市场体量仅次于光刻设备。目前，中微公司已是国内刻蚀设备龙头，同时也在积极拓展薄膜设备业务。

在业绩说明会上，尹志尧也介绍了薄膜沉积设备。他表示，中微公司正在不断开发多种薄膜沉积设备，扩大产品覆盖度。

根据2024年年报，中微公司LPCVD实现首台销售，全年设备销售额约1.56亿元。对于中微公司LPCVD与国内头部设备厂商的差异，尹志尧告诉记者：“我们做LPCVD之前，有不少厂商比我们做得早。但是我们做任何一个产品，绝对不会抄外国的设备。中微研发设备，一定会分析国际上最大、最强的两三家厂商，分析它们每一个反应器的优点和缺点。中微会开发出差异化、具有自主知识产权的有竞争力的设备，做出自己独特的设计。”

据介绍，薄膜沉积设备分为LPCVD（低压化学气相沉积）、PECVD（等离子化学气相沉积）、ALD（原子层沉积）、PVD（物理气相沉积）、EPI（单晶外延）、炉管CVD和镀铜等种类。

2022年，PECVD市场规模占总薄膜市场规模比例为32%，PVD、ALD、LPCVD、EPI、炉管CVD和镀铜占比分别为22%、14%、8%、8%、8%和5%。

在业绩说明会上，尹志尧介绍，半导体薄膜设备有约八类不同的设备，中微的策略是从MOCVD切入，近几年集中力量开发了LPCVD，然后做EPI，慢慢进入ALD。现在已经开始做大规模集成的设备，包括PVD、ALD和LPCVD，也在开发新一代等离子体源的PECVD设备。

中微公司表示，近两年新开发的LPCVD薄膜设备和ALD薄膜设备，已有多款新型设备进入市场并获得重复性订单。其中，LPCVD薄膜设备累计出货量已突破150个反应台，其他多个关键薄膜沉积设备研发项目正在顺利推进。此外，公司EPI设备已顺利进入客户端量产验证阶段。公司在Micro-LED和高端显示领域的MOCVD设备开发上取得良好进展，并积极布局碳化硅和氮化镓器件市场。

从刻蚀到平台型公司

在业绩说明会上，尹志尧首先介绍了其刻蚀机发展情况。刻蚀设备主要分为CCP（电容性耦合的等离子体源）和ICP（电感性耦合的等离子体源）两类。近年来，中微公司ICP设备取得了高速增长。2023年新增订单为21.68亿元，同比增长139.3%；2024年新增订单为41.08亿元，同比增长89.5%。

尹志尧表示，过去，中微需要3到5年开发一个新产品，进入市场则需要更长时间。现在中微只需要约18个月就可以开发一个新产品，进入市场半年到一年就可以量产。

中微公司董事长兼总经理尹志尧在业绩说明会上表示，到2035年，中微公司将在规模、产品竞争力和客户满意度上成为全球第一梯队的半导体设备公司。公司的目标一定要达到，一定能够达到。

在业绩说明会结束后的问答环节，有投资者问及中微公司薄膜与刻蚀之间研发投入的分配比例。

对此，尹志尧表示：“过去20年，中微公司大部分研发投入在刻蚀上，刻蚀占研发比例长期保持在70%左右，最高甚至超过75%。但是，最近几年，越来越多的钱投入到薄膜设备的研发上。因为薄膜的种类非常多，所以说研发投入与刻蚀没有伯仲之分了。因此，也期待薄膜设备的收入体量快速增长。”

关于未来，尹志尧表示：“五到十年，我们已经做好了布局，不断扩大中微的覆盖面，覆盖包括刻蚀、薄膜和量检测设备，以及部分湿法设备。希望五到十年，覆盖60%以上的半导体高端设备，成为一个平台式集团公司。”

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