中国在芯片光刻技术方面落后，华盛顿知名智库称——彭博社

中国在推进半导体光刻技术方面面临重大挑战，这是其实现技术自主并在与美国的贸易战中取得优势的关键障碍。

上海微电子装备集团作为国内该技术的主要供应商，仅能占据旧一代光刻机市场4%的份额，据安全与新兴技术中心数据显示。这家位于华盛顿特区的独立智库常为美国政府多个部门提供咨询。

CSET研究人员发现中国企业"在制造设备领域取得显著进展"，包括在某一细分市场与日本持平。但芯片制造设备商上海微电子仍远远落后于光刻技术领军企业阿斯麦控股及其规模较小的日本竞争对手尼康公司。

“这表明光刻技术仍是关键瓶颈，“研究员雅各布·费尔德戈伊斯与汉娜·多门在周一的报告中写道。

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由于美国主导的长达数年的出口管制，荷兰阿斯麦始终无法向中国出口其最先进的极紫外光刻系统。中国科技巨头华为技术有限公司2023年推出由中芯国际代工的7纳米国产芯片令美国政界震惊，但很快其进展就陷入停滞，主因正是缺乏先进光刻系统。

CSET研究人员分析了各公司向加拿大芯片咨询公司TechInsights提供的营收信息。该数据集不包含企业可能为内部使用而开发的工具，因此华为等公司内部研发的先进设备可能未被纳入统计。