请问：为什么“国产光刻机水平不宜高估”？_风闻

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前不久，工业和信息化部发布了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》的公告，其中两款国产光刻机——氟化氪（KrF）与氟化氩（ArF）光刻机的亮相，尤为引人注目。前者分辨率≤110nm，套刻≤25nm；后者分辨率≤65nm，套刻≤8nm。按照公布的技术参数，说明国产光刻机已经具有制造28奈米甚至更先进制程芯片的能力。这一成就，标志着“工业皇冠上的明珠”——光刻机技术，再次被中国力量所突破，更为即将到来的国庆佳节增添了一抹亮丽的科技色彩。

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然而，在全国人民欢欣鼓舞之际，却传来一阵阵抹杀、贬低国产光刻机的杂音！比如，早晨在观察者网上所见的《国产光刻机水平不宜高估，警惕芯片业的速胜论》一文，看了标题就觉得不是个味道！什么叫不要高估国产光刻机的水平？是不是跪久了，跪着舒服，习惯了仰望，却忘记了自己站立的力量？

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光刻机作为半导体产业的核心设备之一，在全球科技竞争日益激烈的当下，其战略地位不言而喻。然而，长期以来，美国等西方国家凭借着在光刻机领域的技术优势，对我国实施了一系列禁售措施，试图遏制我国芯片产业的发展。在如此严峻的困境下，经过几代人的拼搏努力，国产光刻机终于横空出世，犹如破晓的第一缕阳光，照亮了我国半导体产业的自主发展之路。中国光刻机从一片空白到零的突破，这一跨越不仅是技术领域的壮举，更是国家意志与民族精神的集中体现，它的历史意义和现实意义远超技术层面，怎么赞誉与论述都不过分：

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第一、国产光刻机的问世，尽管尚处于初级阶段，但并不妨碍它的里程碑意义。有了这第一台国产光刻机，帮助国家实现从无到有的跨越。我们可以不再完全依赖外部供应，为后续的技术升级和产业拓展奠定了坚实基础。更重要的是，这一伟大突破，向世界传递出一个强烈信号：**中国不会在关键技术上永远受制于人，我们将通过不懈努力，逐步缩小与国际先进水平的差距，最终实现后来居上的超越。**反观荷兰的阿斯麦光刻机，精密零部件超过10万多个，90%来自40多个国家的5000多家供应商。比如镜头是德国蔡司的，特殊复合材料是日本的，精密机床是瑞典的，控制软件跟光源是美国的，但中国光刻机是纯中国血统，就像空间站、原子弹、盾构机等国之重器一样，我们是凭一己之力单挑“联合国军”。攻克了光刻机这个0到1的高峰，后面的2、3、4.…..还会远吗？

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第二、国产光刻机的问世，是对美西方国家禁售策略的直接回应，它重塑了市场战略格局，引入了新的平衡力量。我们凭借中低档光刻机产品的推出，不仅有效满足了国内市场的迫切需求，还能够在一定程度上冲击国际市场的低端领域。这种“你断我高档产品，我断你低端市场”的策略，让美西方国家再采取制裁措施时，不得不要三思而后行，因为一旦他们失去了中国这个庞大的市场，将对其自身利益造成重大损失。中国人历来有“装备一代、研发一代、预研一代”的传统，此次曝光出来的光刻机，仅仅是冰山一角，肯定不是中国最先进的，更先进的技术正在蓄势待发。之前华为Mate60 Pro的麒麟9000s芯片，以及如今Pura70的麒麟9010芯片，均采用的是7nm制程，完全由中国自主生产制造。因此，国产光刻机的问世，无疑让美西方国家倍感挫败和沮丧，而对于高度依赖中国市场、近半数收入源自中国的荷兰阿斯麦公司，更是一次震撼性的市场冲击，宣告世界半导体行业格局的深刻变革即将到来。

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第三、国产光刻机的问世，不仅是对现有技术的突破，更是对我国半导体产业升级的强大推动力。随着技术的不断成熟和市场的不断扩大，国产光刻机将逐步向更高档次迈进，推动我国芯片产业向更高水平发展。同时，它也将带动整个产业链上下游的协同发展，形成更加完善的产业生态体系，为我国半导体产业的长期可持续发展奠定坚实基础。

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第四、国产光刻机的问世，还将极大地提升我国在全球科技领域的话语权和影响力。它将向世界展示我国在科技创新方面的实力和成就，为我国在国际舞台上争取更多的话语权和主动权。同时，它也将促进国际科技合作与交流，推动全球半导体产业的共同繁荣与发展。

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展望未来，国产光刻机的发展前景广阔。随着技术的不断积累和市场的持续拓展，我们有理由相信，国产光刻机将逐步向高端领域迈进，未来必将遥遥领先世界，与我们的新能源汽车、高铁、大飞机、盾构机、太空空间站、核武器等高科技一起，共同构筑起我国科技实力的重要支撑，引领半导体产业实现跨越式飞跃，为我国乃至全球半导体产业的繁荣与发展贡献中国力量。