三星削减High-NA EUV光刻机采购量，与ASML合作研发案陷入不确定性_风闻

2024年8月20日，半导体行业传出重磅消息。韩国电子巨头三星电子（Samsung Electronics）近日决定削减其对下一代极紫外光（EUV）光刻设备的采购量，这一决定可能对其与荷兰半导体设备制造商ASML的合作研发项目带来深远影响。据韩国媒体Business Korea报道，三星与ASML此前达成的谅解备忘录（MOU）正面临变数，这一事件引发了业界的广泛关注。

2023年12月12日，韩国总统尹锡悦在访问荷兰期间，参观了ASML的总部。这次访问得到了高度重视，陪同人员包括荷兰国王威廉-亚历山大、三星会长李在镕（Lee Jae-yong）、SK集团董事长崔泰源（Chey Tae-won）以及ASML首席执行官Peter Wennink。在这次访问中，三星和ASML签署了一份谅解备忘录，计划在韩国首都圈共同建设一个EUV联合研发中心。此举标志着两家公司将在EUV技术领域展开更为深入的合作，旨在推进下一代半导体技术的发展。

然而，短短半年之后，这一合作项目的前景已蒙上阴影。根据报道，三星在7月初的一次内部会议上通知ASML，决定大幅削减其原定采购的High-NA EUV光刻设备的数量。具体而言，三星原计划在未来十年内采购超过三台ASML的下一代设备，包括EXE:5200、EXE:5400和EXE:5600。然而，最新消息显示，三星目前仅决定引进EXE:5200型号，而是否采购后续型号将重新评估。这一决定是在全永铉（Young Hyun Jun）接任三星设备解决方案（DS）事业群负责人后，重新审视了正在进行的项目和投资计划的结果。

这一采购计划的调整，直接影响到了两家公司在韩国京畿道华城市（Hwaseong）共同建设的EUV研发中心项目。报道称，研发中心的土地采购和设计审批程序本已在稳步推进，但由于三星决定削减设备采购量，相关程序现已完全停滞。ASML与三星合作的研发中心是否会更改建设地点，甚或直接取消，目前尚无定论，这将是两家公司未来讨论的重点。

虽然三星高层表示High-NA EUV光刻设备的引进计划并未改变，并强调两家公司合作的研发中心将会在最合适的地点设立，但这一系列变动仍然引发了业内的广泛担忧。一位业内专家指出，如果三星与ASML能够按原计划推进合作，三星不仅可以在引进先进EUV设备上领先于竞争对手，还能够近距离参与和观察EUV技术的开发过程。然而，如果计划发生改变，三星可能会错失这些宝贵的机会。

此外，三星此举还可能对其在高端代工市场的竞争力产生负面影响。High-NA EUV光刻设备被视为下一代半导体制造的关键工具，其高精度和高效率将有助于推动芯片制造工艺的进一步提升。三星削减采购量的决定，可能会延缓其在先进制程领域的布局，从而影响其在与台积电（TSMC）等竞争对手的激烈竞争中占据优势。

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