美国芯片三边联盟应令北京感到不安 - 《华尔街日报》

拜登政府成功拉拢日本和荷兰加入其对华芯片出口限制的行列，是美国外交的一次胜利。但要维持这一战略，还需付出艰巨努力。

日本和荷兰上周五同意与美国共同限制向中国出口先进芯片制造设备。这三个国家在先进半导体设备制造领域占据主导地位，因此该计划可能使中国发展自主芯片产业面临更大困难。

日本和荷兰在名为光刻的制造工艺上尤其领先：即利用光在硅片上印制微型电路。荷兰制造商阿斯麦(ASML)基本垄断了极紫外光刻（EUV）设备的制造，该技术用于生产最尖端芯片。该公司已停止向中国出口EUV设备。

但自拜登政府10月扩大对华芯片相关限制以来，为增强美国措施效力并避免让美企独自承担冲击，部分荷兰和日本的较老技术可能也需纳入限制。日本尼康(Nikon)在深紫外光刻(DUV)技术设备供应领域与阿斯麦展开竞争，该技术比EUV低一个级别。上周五的协议很可能将禁止日荷企业出口至少部分型号的DUV设备。

然而，荷兰与日本政府迄今对协议具体细节的沉默态度颇具深意。两国可能担忧中国的强烈反应——中国一直是芯片制造设备的重要客户。尽管阿斯麦尚未向中国交付其价值1.5亿欧元的极紫外光刻机，但2022年该公司约14%的系统销售额来自中国。此外在限制措施的严格程度上，两国与美国之间可能仍存在分歧。

初步影响或许有限——尽管这将极大阻碍中国建设尖端芯片工厂的努力，并可能对部分现有设备的维护构成挑战。但与以往单方面行动不同，美国此次成功说服盟友加入其遏制中国芯片雄心的战略。这本身就值得关注，尤其是当前美欧正因拜登政府的绿色技术补贴政策陷入另一场争端。

若美国及其盟友同意进一步加强对华限制，后续可能祭出更多手段。部分分析师认为当前措施力度不足：半导体分析机构首席分析师迪伦·帕特尔在简报中指出，仅禁止向中国出口新设备效果有限，因其仍可使用现有机器。他建议限制光刻胶等材料的出口，这种光敏材料是光刻工艺的关键。日本企业在光刻胶生产领域占据领先地位，东京电子公司更是在硅片涂覆和显影设备制造方面具有统治性优势。

美国明智地选择向盟友寻求帮助，而非单方面与中国展开科技冷战。这些最新限制虽不会彻底扼杀中国芯片产业，但传递出盟友团结的强烈信号，甚至可能预示着未来将采取更多措施。对北京和中国的芯片企业而言，这轮最新攻势中最令人担忧的或许正在于此。

ASML公司在台湾的培训中心。这家荷兰公司的极紫外光刻（EUV）设备是先进芯片制造的关键。图片来源：ANN WANG/REUTERS联系作者Jacky Wong，邮箱：[email protected]

本文发表于2023年1月31日印刷版，标题为《芯片联盟应令中国警觉》。