原子弹和光刻机哪个难?_风闻
guan_15779619651540-10-02 08:48
【本文由“马氏体”推荐,来自《汪波:EUV光刻机的局限与半导体产业的未来》评论区,标题为马氏体添加】
信心当然要有,谦虚也是必须的。
原子弹和光刻机哪个难?对中国来讲,其实都不难。中国毕竟是大国,狠狠心,集中资源,剩下的就是时间问题。
核武器是事关国家民族生死存亡的问题,光刻机还远不到这一步。而且,我们实际上需要研发的是EUV光刻机,低端光刻机我们并不缺。EUV光刻机不应该和原子弹类比,应该和中子弹类比比。两者都不是从0到1的发明,是从1到10000的发展。虽然实践中还有很多小的创新发明,但是大的原理概念是早就有的。
在ASML发展EUV的过程中,确实有无数的工程创新是值得尊敬的。但是,既然知道这条路是可以走通的,再走一遍节省一半时间是可以预期的。问题其实在于,值不值得投那么多资源去做。
这篇文章其实谈了很多困难和方向,其实意思是,半导体的发展还有很多路径,没必要只盯着光刻机不放。作为大国,各个方向都要投入资源研究。EUV光刻机当然也要投资源,但是没必要上纲上线搞成生死存亡的事来搞。
其实我们在新能源上的成功就是因为不吊死一棵树,反而是欧洲和日本进入了路径依赖,现在想转向都难。在光刻机这个领域,在相当一段时间内,接受我们不如ASML这个现实,没什么大不了。这条路本来就越来越狭窄,说不定哪天就要到头了。只要持续保持科研投入,总会有柳暗花明的那天。
就在十年前,互联网上对我们的汽车工业一片哀叹。当时可不是讨论追赶国外巨头,而是觉得国产汽车和国产品牌就要被消灭了。现在回头看,真是恍若隔世。真实的世界不需要那么多情绪化,少给半导体从业者压力,让他们安心去搞,一切都会有的。