原子弹和光刻机哪个难？_风闻

【本文由“马氏体”推荐，来自《汪波：EUV光刻机的局限与半导体产业的未来》评论区，标题为马氏体添加】

信心当然要有，谦虚也是必须的。

原子弹和光刻机哪个难？对中国来讲，其实都不难。中国毕竟是大国，狠狠心，集中资源，剩下的就是时间问题。

核武器是事关国家民族生死存亡的问题，光刻机还远不到这一步。而且，我们实际上需要研发的是EUV光刻机，低端光刻机我们并不缺。EUV光刻机不应该和原子弹类比，应该和中子弹类比比。两者都不是从0到1的发明，是从1到10000的发展。虽然实践中还有很多小的创新发明，但是大的原理概念是早就有的。

在ASML发展EUV的过程中，确实有无数的工程创新是值得尊敬的。但是，既然知道这条路是可以走通的，再走一遍节省一半时间是可以预期的。问题其实在于，值不值得投那么多资源去做。

这篇文章其实谈了很多困难和方向，其实意思是，半导体的发展还有很多路径，没必要只盯着光刻机不放。作为大国，各个方向都要投入资源研究。EUV光刻机当然也要投资源，但是没必要上纲上线搞成生死存亡的事来搞。

其实我们在新能源上的成功就是因为不吊死一棵树，反而是欧洲和日本进入了路径依赖，现在想转向都难。在光刻机这个领域，在相当一段时间内，接受我们不如ASML这个现实，没什么大不了。这条路本来就越来越狭窄，说不定哪天就要到头了。只要持续保持科研投入，总会有柳暗花明的那天。

就在十年前，互联网上对我们的汽车工业一片哀叹。当时可不是讨论追赶国外巨头，而是觉得国产汽车和国产品牌就要被消灭了。现在回头看，真是恍若隔世。真实的世界不需要那么多情绪化，少给半导体从业者压力，让他们安心去搞，一切都会有的。