佳能开始向ASML的竞争对手出售芯片机器 - 彭博报道

佳能公司已经开始销售其纳米压印半导体制造系统，试图通过将这项技术定位为比当今领先工具更简单、更可实现的替代方案来夺回市场份额。

这家总部位于东京的公司的新芯片制造机器可以在使用极紫外光刻（EUV）时产生相当于5纳米尺度的电路，这个领域由行业领导者 ASML控股公司主导。佳能在周五的一份声明中表示，预计其设备将通过进一步的进展和改进达到下一代2纳米生产。与国内同行 尼康公司一样，佳能在EUV竞赛中落后于ASML很远，但其纳米压印光刻方法可能有助于缩小差距。

FPA-1200NZ2C来源：佳能公司佳能的机器也可能在美中贸易战中开辟新的战线，因为目前唯一可靠的制造5纳米芯片及更小尺寸芯片的EUV机器进口到中国受到贸易制裁的禁止。这家日本公司的技术完全跳过光刻工艺，而是将所需的电路图案直接压印到硅晶圆上。由于其新颖性，它不太可能受到现有贸易限制的明确禁止。

佳能的一位发言人拒绝就新设备是否受到日本的出口 限制发表评论。

纳米压印光刻技术长期以来一直承诺提供一种低成本替代方案以取代光刻技术，过去曾受到存储器制造商SK海力士和东芝公司的推崇。东芝的前存储器部门Kioxia控股公司在商业成熟之前测试了佳能的纳米压印机。佳能现在必须证明自己已经解决了过去努力中困扰的问题，比如高缺陷率。

作为欧洲最有价值的科技公司，ASML连续五个季度实现了收入增长并且订单激增。总部位于费尔多霍芬的这家公司是全球领先芯片制造商的EUV供应商，并预计今年净销售额将增长30%。

今年佳能股价上涨了26%，受益于日本股市的广泛上涨以及人工智能应用带来的芯片制造设备需求增加。

佳能一直专注于用于制造较不先进芯片的产品，2014年收购了纳米压印先驱Molecular Imprints公司，并已经花费了近十年时间研究这项技术。作为台湾半导体制造公司的供应商，佳能正在北京都宇都宫建造其二十年来的首家光刻设备新工厂，计划于2025年投入使用。