NIL纳米压印技术_风闻

【本文来自《有数DataVision：阿斯麦向中国提供光刻机受限，佳能来了》评论区，标题为小编添加】

• guan_16623380702453
• 可能是我眼花了，看了三遍，全文没有一处提到佳能这个光刻机的制程最小是多少nm。

现在的营销号都这么只为流量而不讲不专业了吗？

佳能这个不是光刻机。

Nanoimprinting Technology (NIL) 纳米压印技术是制备纳米尺度图案的一种方法。这种方法工艺简单，成本低廉，可大规模生产，且生产出来的图案具有很高的分辨率。在这里，纳米尺度的图案是由压印模具压印光刻胶再加上后续的工艺步骤制备形成的。光刻胶一般由单分子或聚合物构成，且固化方式为热固化或紫外固化。压印模具与光刻胶之间的粘附力需要被精确控制以获得最合适的压印效果。

NIL技术广泛应用于电子学、光子学、光电子学和生物等领域。在电子学领域，NIL技术已经被用来制备场效应管（MOSFET），有机薄膜晶体管（O-TFT）和单电子存储器等；在光子学和光电子学领域，NIL技术在亚波长的共振光栅过滤器，偏振镜，波片，抗反射结构，光子集成电路以及等离子器件等方面都有深入的研究和应用。另外，Sub-10 nm的微流控通道被用于DNA的拉伸试验就是由NIL技术制备而成的。近来，NIL技术被用来缩小生物分子排序器件的尺寸使得排序的量级更小，更有效。

NIL技术最大的优点是其工艺简单。与芯片制造相关联的一个最大成本是用于印刷电路图案的光刻工具。光学光刻技术需要高功率紫外线激光和大量的精密透镜来实现纳米级的分辨率。而NIL技术不需要复杂的光学系统和高功率的激光源，也不需要根据给定分辨率和波长的灵敏度来设计合适的光刻胶。因此，该技术的简化要求造就了其成本的低廉。NIL技术是一种固有的三维图案化技术。压印模具可以由多层垂直堆叠的方法来制备。两层结构的复制只需要一个压印步骤，这使得芯片制造商可以降低芯片制造成本，提高产品的生产量。如上所述，纳米压印材料不需要调成为对给定波长的光具有高的分辨率和灵敏度。因此，更大范围的不同性能的材料都可以应用在纳米压印技术中。这种增加了的材料可变性，给化学家们提供的更自由的空间去设计新功能材料，而不是牺牲抗腐蚀性的聚合物材料。一种功能材料也许可以直接通过纳米压印在芯片上形成图案而不需要放在下面的转移层材料。成功的使用一种新型功能材料可以有效的降低生产成本，并通过减少许多困难的制造工艺来提高生产能力。