出口管制实务 | 解析美商务部对特定ECAD软件的出口管制新规_风闻

走出去智库观察

近日，美国商务部工业和安全局（BIS）披露了一项新增的出口限制临时最终规则，其中对设计GAAFET（全栅场效应晶体管）结构集成电路所必须的ECAD软件实施新的出口管制。这是拜登于8月9日签署《芯片和科学法案》后，美国针对中国芯片产业的进一步限制。

走出去智库（CGGT）特约法律专家、锦天城律师事务所邱梦赟律师指出，美国商务部对于受新ECCN 编码3D006管制的ECAD软件的具体管制规定，是为了响应2021年12月22日《瓦森纳安排》中对于管制物项清单的修改。BIS也表示，公众意见可以通知美国政府，以制定未来的修改《瓦森纳安排》的提案，该提案可能会修订3D006的管制规定文本。因此，BIS将ECCN编码3D006添加到《商业管制清单》（CCL）的生效日期延迟了60天，即2022年10月14日才会生效，并且该管制措施的实施有30天的意见征询期。

中企如何应对美国对特定ECAD软件的出口管制？今天，走出去智库（CGGT）刊发锦天城律师事务所邱梦赟、李晨的文章，供关注美国出口管制的读者参考。

要 点

CGGT，CHINA GOING GLOBAL THINKTANK

**1、**本次BIS新增管制的ECAD软件，意味着美方旨在限制专门设计用于开发3纳米及以下技术节点关键的GAAFET结构的集成电路的设计软件的出口、再出口、在美国以外的一国国内转让的行为。

2、BIS技术咨询委员会建议，行业有机会就ECCN 3D006管制措施的实施提交公众意见，即适用的许可证要求、许可证例外资格、可能澄清控制范围的注释，以及克服合规困难的建议和随着软件技术进步对管制规定文本进行未来修订的建议。

3、《瓦森纳安排》的参与国，可以根据每年《瓦森纳安排》的修订内容，相应调整其一国内法，以体现《瓦森纳安排》及其管制清单中约定的两用物项和技术及军需品的出口管制措施。

正 文

CGGT，CHINA GOING GLOBAL THINKTANK

美国时间2022年8月15日，美国商务部工业安全局（Bureau of Industry and Security of U.S. Department of Commerce或BIS。以下简称“BIS”）发布了一项最终规则（以下简称“本次新规”）[1]，其正在修改《商业管制清单》（the Commerce Control List，以下简称“CCL”）[2]，即：通过修订5个美国出口管制编码（又称：ECCN）以及增加1个新的ECCN编码，以实施对四种技术的管制，四种将被出口管制的技术中，最受瞩目的是：“专门设计”用于“开发”具有任何“Gate-All-Around Field-Effect Transistor”（“GAAFET”）结构的集成电路（IC）的计算机辅助电子设计软件（“ECAD软件”）。BIS为该技术增加了新ECCN编码，即：3D006。

BIS本次新规中认为，ECAD软件是一类用于设计、分析、优化和测试集成电路或印刷电路板性能的电脑软件，被用于军事和航空航天防御的各种应用中设计复杂的集成电路。而GAAFET技术方法是实现3纳米及以下技术节点的关键，该技术可以使生产更快、更节能、更耐辐射的集成电路成为可能，可推进许多商业及在国防和通讯卫星的军事应用。因此，本次BIS新增管制的ECAD软件，意味着美方旨在限制专门设计用于开发3纳米及以下技术节点关键的GAAFET结构的集成电路的设计软件的出口、再出口、在美国以外的一国国内转让的行为。

此外，美国商务部本次修订，也是响应了2021年 12月瓦森纳全体会议上，各国政府参与的《关于常规武器与两用物项和技术出口控制的瓦森纳安排》（The Wassenaar Arrangement on Export Controls for Conventional Arms and Dual-Use Good and Technologies，以下简称“《瓦森纳安排》”）中共同决定的新增对部分物项的管制措施。

一、什么是《瓦森纳安排》？

《关于常规武器与两用物项和技术出口控制的瓦森纳安排》（又称：《瓦森纳安排》）是一项管制传统武器及军商两用物项的多边出口管制机制。截至2021年12月27日，《瓦森纳安排》共有包括美国在内的42个参与国[2]（不含中国），具体成员情况见《附件一：瓦森纳安排参与国》。

《瓦森纳安排》创设了管制物项清单（Control Lists），即《两用物项和技术清单和军需品清单》（List of Dual-Use Goods and Technologies and the Munitions List）。参与国可以对《两用物项和技术清单和军需品清单》中所列的所有物项实施出口管制，目的是防止这些物项未经授权转让或再转让[3]，以确保管制物项不会有助于发展或增强军事能力，也不会被用于支持该能力，从而减损《瓦森纳安排》的目的。

二、2021年12月22日瓦森纳安排发布2021年版管制物项清单，新增了具有特定设计功能的ECAD软件作为管制物项。

2021年12月22日，瓦森纳安排秘书处发布了2021年版的《两用物项和技术清单和军需品清单》（List of Dual-Use Goods and Technologies and the Munitions List）[5]（以下简称“WA-LIST（21）”）。

本次发布的WA-LIST（21）与2020年发布的WA-LIST（20）[6]相比，调整了部分条款的表述和针对管制物项的描述，并增加了新的管制物项，其中，包括：新增了物项3. D. 6.，即：在WA-LIST（21）“第三分类-电子”中新增了管制物项3. D. 6. “计算机辅助电子设计” “软件”（“Electronic Computer-Aided Design”“Software”，以下简称“ECAD软件”）。具体规定如下：

●“ECAD”“软件”专门设计用于“开发”具有任何**“Gate-All-Around Field-Effect Transistor”（“GAAFET”）结构的集成电路，并具有以下a或b的任何一项**：

a.专门设计用于执行“寄存器传输级”（以下简称“RTL”）实施到“几何数据库标准 II”（以下简称“GDSII”）或等效标准而设计（Specially designed for implementing ‘Register Transfer Level’ (‘RTL’) to ‘Geometrical Database Standard II’ (‘GDSII’) or equivalent standard）；或

b.专为优化功率或时序规则而设计（Specially designed for optimisation of power or timing rules.）[7]。

● 技术说明：

1. ECAD是一种“软件”工具，用于设计、分析、优化和验证集成电路或印刷电路板的性能。

2.RTL是根据硬件寄存器之间的数字信号流和在这些信号上执行的逻辑操作来模拟同步数字电路的设计抽象。

3.GDSII是一种数据库文件格式，用于集成电路或集成电路布局图的数据交换[8]。

此外，WA-LIST（21）中对GAAFET的定义做出了规定，即：GAAFET是指一种具有单个或多个半导体传导通道元件的器件，该器件具有共同的栅极结构，围绕并控制所有半导体传导通道元件中的电流。（注：本定义包括纳米片或纳米线的场效应晶体管和包围栅极晶体管以及其它“GAAFET”半导体沟道元件结构）[9]

●什么是“Gate-All-Around Field-Effect Transistor”（“GAAFET”）？

根据电气与电子工程师协会（Institute of Electrical and Electronics Engineers）在国际器件与系统技术发展蓝图（International Roadmap for Devices and Systems,以下简称“IRDS”）官网发布的《2016年版IRDS™白皮书》，其预测GAAFET将在4纳米及以下节点取代FinFET[10]。

根据相关新闻报道，在2021年年初，三星在IEEE国际固态电路大会（ISSCC）上公布了3纳米制造技术的一些细节，包括类似全栅场效应晶体管(GAAFET)结构，率先开启先进工艺在技术架构上的转型。知名能源与电力媒体eenews报道称，三星工厂已经流片采用GAAFET架构的3纳米芯片，通过纳米片（Nanosheet）制造出MBCFET（多桥通道场效应管），可显著增强晶体管性能，主要取代FinFET技术[11]。

可见，认为在未来3或4纳米及以下的芯片器件中，GAAFET将成为主要芯片结构之一。因此，GAAFET也将是中国芯片行业的主要发展方向，对中国芯片发展将起到至关重要的作用。

三、美国商务部对于受新ECCN 编码 3D006管制的ECAD软件的具体管制规定，是为了响应2021年12月22日《瓦森纳安排》中对于管制物项清单的修改。

(一) 本次管制的ECAD软件为：受新ECCN 编码 3D006管制的ECAD软件

如上所述，BIS在本次新规中表示，BIS正在修改《商业管制清单》（CCL），其中包括增加新的ECCN编码，即：ECCN编码3D006，以管制：

●“专门设计”用于“开发”具有任何“Gate-All-Around Field-Effect Transistor”（GAAFET）结构的集成电路的计算机辅助电子设计软件（ECAD软件）且该ECAD软件符合3D006的技术参数，且必须“专门设计”用于实现RTL到GDSII或等效标准，或者“专门设计”用于优化功率或定时规则（以下简称“受新ECCN 编码 3D006管制的ECAD软件”）。

ECCN 编码3D006还将包含定义ECAD、RTL和GDSII的新技术说明。ECAD软件工具旨在整合并使用来自每个代工厂的不同工艺设计套件（PDK），其中包括该代工厂晶体管架构的技术规格。当ECAD软件工具按照ECCN 编码中所述进行专门设计时，本次BIS新规亦适用于ECAD软件工具，无论其是与PDK一起导出还是单独导出。

(二) ECCN 编码 3D006管制的ECAD软件的****管制要求

ECCN编码可以明确“管制理由”，例如，NS指代的是国家安全理由（National security）、AT指代的是反恐理由（Anti-terrorism）、NP指代的是核不扩散理由（nuclear nonproliferation）。

本次受新ECCN 编码 3D006管制的ECAD软件的管制政策是：针对NS和AT原因，即：**针对BIS的《商业国家图表》（Commerce Country Chart）上NS：2或AT：1列中列出“ X ”的国家，施加许可证要求。而中国，则在BIS的《商业国家图表》（Commerce Country Chart）中是被NS:2列中列出“X”的国家。**许可证例外（参见《美国出口管制条例》的第740章），例如许可证例外战略交易授权（License Exception Strategic Trade Authorization (STA)）可以授权一项交易，否则将需要许可证的交易。

(三) BIS下一步：2022年10月14日前征求公众意见

BIS正在就下列事项寻求公众意见和建议：

●确定哪些特定的ECAD功能特别适合设计GAAFET电路，以确保美国政府有效地实施这一新的管制措施；

●正在就许可证要求的范围征求公众意见和行业意见；

●协助对出口此类软件的许可证申请进行跨部门审查的意见。

BIS也表示，公众意见可以通知美国政府，以制定未来的修改《瓦森纳安排》的提案，该提案可能会修订3D006的管制规定文本。

此外，BIS技术咨询委员会建议，行业有机会就ECCN 3D006管制措施的实施提交公众意见，即适用的许可证要求、许可证例外资格、可能澄清控制范围的注释，以及克服合规困难的建议和随着软件技术进步对管制规定文本进行未来修订的建议。因此，BIS将ECCN编码3D006添加到《商业管制清单》（CCL）的生效日期延迟了60天，即2022年10月14日才会生效，并且该管制措施的实施有30天的意见征询期。

(四) ECCN 编码 3D006管制的ECAD软件：保留条款（Saving Clause）

对于出口、再出口和在国内转让至国外目的地的实际订单，于2022年10月14日因本次新规而被取消许可证例外资格或没有许可证的情况下，出口、再出口或转移（国内）资格的货物，在码头装货、装驳船上、装在出口承运人上或在承运人前往出口港的途中，只要在2022年11月14日之前已经被出口、再出口或在国内转让，就可以根据先前的许可证例外资格或在没有许可证的情况下继续前往该目的地。任何在2022年11月14日夜12点之前未实际出口、再出口或在国内转让的此类物项，都需要根据本次新规获得许可证。

四、《瓦森纳安排》的管制物项清单的修改对中国芯片行业的影响

(一) 《瓦森纳安排》及其管制清单与参与国国内立法的关系？

根据《瓦森纳安排》创始文件（Founding Document）“准则和程序，包括初步要点（Guidelines and Procedures, including the Initial Elements）”中第二章第三节的规定，“转让或拒绝转让任何物项的决定，由各参与国自行负责。就《瓦森纳安排》采取的一切措施，均应符合各国的立法和政策，并根据各国的酌处权予以执行[12]”。

因此，《瓦森纳安排》的参与国，可以根据每年《瓦森纳安排》的修订内容，相应调整其一国内法，以体现《瓦森纳安排》及其管制清单中约定的两用物项和技术及军需品的出口管制措施。

(二) 美国国内法律回应《瓦森纳安排》的管制清单修订的情况

根据以往的情况，美国政府会在《瓦森纳安排》的管制清单修改后针对其本国的管制清单进行调整。

● 2021年

例如，本文上述提到的，2021年版《瓦森纳安排》修订了《两用物项和技术清单和军需品清单》（List of Dual-Use Goods and Technologies and the Munitions List） （即：“WA-LIST（21）”），相回应的，BIS已经修改了其内国法规定中 《商业管制清单》（CCL），以限制对“‘专门设计’用于‘开发’具有任何‘Gate-All-Around Field-Effect Transistor’（GAAFET）结构的集成电路的计算机辅助电子设计软件（ECAD软件）”的出口。

● 2019年

此外，早在2019年12月瓦森纳安排秘书处发布了2019年版的《两用物项和技术清单和军需品清单》（即：WA-LIST（19）），其中修改了3. D. 3的内容。相应的，2020年10月5日，美国商务部工业安全局（BIS）公布了一条规则（85 FR 62583）[13]，实施对2019年12月瓦森纳安排对2019年版《两用物项和技术清单和军需品清单》（即：WA-LIST（19））的修改内容，受影响的美国出口管制分类编号（ECCN）为3D003，该编码的内容被修改为**“开发”EUV光刻掩膜或版上的图案而“专门设计”的计算光刻“软件”**（`Computational Lithography’ “Software” “Specially Designed” for the “Development” of Patterns on EUV-Lithography Masks or Reticles）[14]，可见，美国BIS根据《瓦森纳安排》对2019年版的《两用物项和技术清单和军需品清单》（即：WA-LIST（19））的修订，时隔近一年内，相应修改了其内国法规定中 《商业管制清单》（the Commerce Control List (CCL)）中的美国出口管制编码ECCN码“3D003”的管制内容，该修改与瓦森纳安排WA-LIST 19中针对3. D. 3的修改内容一致。

此外，如BIS在本次新规中提及的，美国政府亦可能就未来的修改《瓦森纳安排》事项，主动提出提案，该提案可能会修订3D006的管制规定文本。

五、总结与建议

综上，

1. 根据本次BIS新规，本次美国BIS新增管制的ECAD软件，需要同时符合如下条件：“专门设计”用于“开发”具有任何“Gate-All-Around Field-Effect Transistor”（GAAFET）结构的集成电路的计算机辅助电子设计软件（ECAD软件）且该ECAD软件符合3D006的技术参数，且必须“专门设计”用于实现RTL到GDSII或等效标准，或者“专门设计”用于优化功率或定时规则（即：受新ECCN 编码 3D006管制的ECAD软件）。

2. 本次BIS新规存在保留条款（Saving Clause）（详见本文上述），与之有关的重要时间节点是：2022年10月14日、2022年11月14日。

3.美国BIS对“受新ECCN 编码 3D006管制的ECAD软件”的管制技术描述及措施细则，还在征求公众意见中，但是，具体细则，已是可从瓦森纳安排发布的2021年版的《两用物项和技术清单和军需品清单》（List of Dual-Use Goods and Technologies and the Munitions List）中预测。

4.虽然瓦森纳安排项下对管制物项清单的变更、更新不能立即成为参与国的国内法，但各参与国（截至2021年12月27日共有42个国家，不含中国）将可能会因此修改一国内法，因此，建议每年关注瓦森纳安排发布的当年度管制物项清单是否存在变更、更新，以及时提前做出部署应对。

《附件一：瓦森纳安排参与国》

注释：

[1]见

https://www.federalregister.gov/documents/2022/08/15/2022-17125/implementation-of-certain-2021-wassenaar-arrangement-decisions-on-four-section-1758-technologies

[2] 美国商务部工业安全局（BIS）监管《商业管制清单》（CCL），该CCL明确了美国商务部对于特定物项的管辖范围。

[3] 见https://www.wassenaar.org/participating-states/

[4] 英文原文为“Participating States apply export controls to all items set forth in the List of Dual-Use Goods and Technologies and the Munitions List, with the objective of preventing unauthorized transfers or re-transfers of those items.”

[5] 见https://www.wassenaar.org/app/uploads/2021/12/Public-Docs-Vol-II-2021-List-of-DU-Goods-and-Technologies-and-Munitions-List-Dec-2021.pdf

[6] 见https://www.wassenaar.org/app/uploads/2019/12/WA-DOC-19-PUB-002-Public-Docs-Vol-II-2019-List-of-DU-Goods-and-Technologies-and-Munitions-List-Dec-19.pdf

[7] 英文原文为“‘Electronic Computer-Aided Design’ (‘ECAD’) “software” specially designed for the “development” of integrated circuits having any “Gate-All-Around Field-Effect Transistor” (“GAAFET”) structure, and having any of the following: a. Specially designed for implementing ‘Register Transfer Level’ (‘RTL’) to ‘Geometrical Database Standard II’ (‘GDSII’) or equivalent standard; or b. Specially designed for optimisation of power or timing rules.”

[8] 英文原文为“Technical Notes

1. ‘Electronic Computer-Aided Design’ (‘ECAD’) is a category of “software” tools used for designing, analysing, optimising, and validating the performance of integrated circuit or printed circuit board.

2. ‘Register Transfer Level’ (‘RTL’) is a design abstraction which models a synchronous digital circuit in terms of the flow of digital signals between hardware registers, and the logical operations performed on those signals.

3. ‘Geometrical Database Standard II’ (‘GDSII’) is a database file format for data exchange of integrated circuit or integrated circuit layout artwork.”

[9] 英文原文为““Gate-All-Around Field-Effect Transistor” (“GAAFET”) A device having a single or multiple semiconductor conduction channel element(s) with a common gate structure that surrounds and controls current in all of the semiconductor conduction channel elements. Note This definition includes nanosheet or nanowire field-effect and surrounding gate transistors and other “GAAFET” semiconductor channel element structures.”

[10] 见https://irds.ieee.org/images/files/pdf/2016_MM.pdf

[11] 见

https://baijiahao.baidu.com/s?id=1704607102476490959&wfr=spider&for=pc

[12] 英文原文为“The decision to transfer or deny transfer of any item will be the sole responsibility of each Participating State. All measures undertaken with respect to the Arrangement will be in accordance with national legislation and policies and will be implemented on the basis of national discretion.”

[13] 见

https://www.federalregister.gov/documents/2020/10/05/2020-18334/implementation-of-certain-new-controls-on-emerging-technologies-agreed-at-wassenaar-arrangement-2019

[14] 英文原文为“`Computational Lithography’ “Software” “Specially Designed” for the “Development” of Patterns on EUV-Lithography Masks or Reticles”

来源：锦天城律师事务所