可用于7nm工艺光刻胶通过验收，南大光电：尚未规模化量产
【文/观察者网 吕栋】在昨日（7月29日）A股反弹行情中，半导体概念齐掀涨停潮，其中光刻胶指数更是大涨近10%领跑所有板块。光刻胶个股中，南大光电收涨20%，晶瑞股份收涨14%，上海新阳收涨11%。
昨天下午收盘后，南大光电发布公告称，该公司承担的国家02专项ArF光刻胶项目通过专家组验收，这种光刻胶可用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺，已建成年产25吨产业化基地。
不过，南大光电也提示风险称，目前ArF光刻胶产品尚未实现规模化量产。ArF光刻胶的复杂性决定了其在稳定量产阶段仍然存在工艺上的诸多风险，后续是否能取得下游客户的大批量订单，能否大规模进入市场仍存在较多的不确定性。
今天（7月30日）南大光电高开逾1%，随后快速拉升，截至发稿涨幅扩大至14.21%，市值325亿元。
7月29日A股板块涨幅情况
7月29日，南大光电公告披露，该公司作为牵头单位，承担的国家科技重大专项（02专项）“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”之“先进光刻胶产品开发与产业化”项目，收到极大规模集成电路制造装备及成套工艺实践管理办公室下发的项目综合绩效评价结论书，项目通过了专家组验收。
南大光电公告截图
在集成电路制造领域，不同波长光源的光刻机需要搭配相应波长的光刻胶进去光刻。目前半导体光刻胶最常使用曝光波长分类，主要有g线、i线、KrF、ArF和最先进的EUV（极紫外）光刻胶。其中，DUV（深紫外）光刻机分为干法和浸润式，所以ArF光刻胶也对应分为干法和浸润式两类。越先进制程相应需要使用越短曝光波长光刻胶，以达到特征尺寸微小化。
根据公告，南大光电承担的02专项光刻胶项目总体目标是开发高端集成电路制造用ArF干式与浸没式光刻胶成套工艺技术，形成规模化生产能力；构建与集成电路行业国际先进水平接轨的技术和管理人才团队，建立完善的技术开发、生产运行、品质管理、市场开拓运行体系和ArF光刻胶产业自主发展相应的知识产权体系。
该项目分为三个子课题，其中南大光电控股子公司宁波南大光电材料有限公司 （下称：宁波南大光电）承接的课题名为：ArF 光刻胶产品的开发和产业化（课题编号：2018ZX02402001）。该子课题主要在以下方面开展研究：
1、ArF光刻胶产品配方及工艺的开发；
2、配方关键组分材料的开发；
3、ArF光刻胶产品及关键组分的分析测试能力的研究；
4、ArF光刻胶的产业化研究。
公告中提到，ArF光刻胶材料可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺，广泛应用于高端芯片制造（如逻辑芯片、 存储芯片、AI 芯片、5G 芯片和云计算芯片等）。长期以来， 国内高端光刻胶市场长期为国外巨头所垄断，对国内芯片制造具有“卡脖子” 风险。尽快实现先进光刻胶材料的全面国产化和产业化，具有十分重要的战略意义和经济价值。
南大光电表示，在项目验收过程中，专家组依据有关规定，听取了该公司关于项目任务及财务执行完成情况汇报、现场测试组的测试报告、用户报告、审计报告及预算调 剂申请报告等，查阅了档案资料，经过质询和讨论，一致认定项目已经完成了任务合同书中规定的各项考核指标。专家组同意项目通过绩效评价验收。
验收专家组认为：
1、光刻胶是集成电路生产过程中的关键材料，通过本项目的实施，掌握了ArF干式和浸没式系列光刻胶产品的原材料制备、配胶、分析检测、应用验证等关键技术，在知识产权和人才培养等方面取得重要进展。
形成了由51人组成的ArF光刻胶研发与生产管理团队，建成了ArF光刻胶产品（包括干式和浸没式）的质量控制平台、年产5吨的干式 ArF光刻胶及年产20吨的浸没式ArF光刻胶产业化生产线；建立了科研经费管理相关的财务制度，并能有效执行；申请专利91项，其中国内发明专利81项，国际发明专利4项，实用新型专利6项（已授权），制定团体标准3项，研制新产品2项；实现ArF光刻胶产品销售，完成了任务合同书规定的主要考核指标。这是我国集成电路关键材料自主创新的一个重要成果。
2、宁波南大光电已建成年产25吨ArF光刻胶产业化基地，具备进一步扩大生产的能力，建议抓住机遇，尽快扩产。
南大光电表示，项目研发任务的完成，预计将对该公司光刻胶事业的未来发展产生积极影响。
不过，公告中也提示风险称，目前ArF光刻胶产品尚未实现规模化量产。ArF光刻胶的复杂性决定了其在稳定量产阶段仍然存在工艺上的诸多风险，不仅需要技术攻关，还需要在应用中进行工艺的改进、完善。同时，ArF光刻胶产品国产化替代受品质、客户的严格要求，后续是否能取得下游客户的大批量订单，能否大规模进入市场仍存在较多的不确定性。这些都会影响ArF光刻胶的量产规模和经济效益。
眼下，全球半导体光刻胶市场主要被日本企业高度垄断，并且在越高端的市场垄断地位越明显。目前，全球半导体光刻胶龙头厂商是TOK（东京应化）、信越化学、JSR（日本合成橡胶）、住友化学、富士胶片等日企和美国陶氏化学，这些龙头企业总计占据各半导体光刻胶细分领域超过85%市场份额，其中头部日企在各个细分领域都占据主导地位。最先进的EUV光刻胶领域则完全被日企所主导，日本的JSR、TOK、信越化学成为EUV光刻胶市场上仅有的实现量产的厂商。
全球光刻胶市场格局 华泰证券2020年11月研报截图
今年5月，南大光电曾在业绩说明会上透露，该公司ArF光刻胶性能上和日本产品达到同等水平，并实现了ArF光刻胶的本土化，打破了被国外长期垄断的被动局面，已经拿到国内光刻胶的首个订单，实现小批量销售，“用于质量检测的光刻机等量测设备是国外进口的，我们已经配备了，运转良好，没有被卡的顾虑。主要原材料是自己开发和生产的，没有被卡风险。生产设备是联合国内企业研制的，也不存在被卡风险”。
2020年，南大光电营收5.95亿元，同比增长85.13%；净利润0.87亿元，同比增长58.18%；扣非净利润为212万元，同比下滑94.25%；研发投入为2.3亿元，（含资本化部分）同比增长247.54%，占营收比重为38.98%。
从财报来看，光刻胶项目尚未给南大光电贡献营收，该公司主要营收来自MO源产品（占比20.21%）和特气产品（占比72.18%）。
财报介绍，MO源系列产品是制备LED、新一代太阳能电池、相变存储器、半导体激光器、射频集成电路芯片等的核心原材料，在半导体照明、信息通讯、航空航天等领域有极其重要的作用；而电子特气是“集成电路、平面显示器件、化合物半导体器件、LED、太阳能电池、光纤等电子工业生产中必不可少的基础和支撑性材料”。
2020年财报截图
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