美国司法部称香港商人企图偷窃通用电气商业秘密转卖内地，但证据不足

【文/观察者网 张菁娟】中美两国之间的技术竞争仍在日益加剧，一项针对所谓的“对美构成国家安全威胁”的中国科技企业的新规定“即将上线”。而与此同时，美国司法部正在指控一位香港人士窃取商业秘密。

美国司法部26日发表声明称，现年64岁的吴姓（Chi Lung Winsman Ng, 音译）香港商人因涉嫌与他人合谋企图窃取通用电气公司（General Electric, GE）价值数百万美元的商业秘密，并试图将其转卖给内地公司，于周四（25日）被起诉。然而，目前美方由于证据不足，暂时无法对被告人进行定罪。

美国司法部声明截图

司法部声明援引起诉书内容，2017年3月至2018年1月，吴姓香港商人和至少一名共谋者密谋策划了一项业务，即通过从通用公司窃取的商业秘密生产和销售碳化硅（SiC）MOSFET。据悉，金属-氧化物半导体场效应晶体管（MOSFET），是一种可以广泛使用在模拟电路与数字电路的场效晶体管，可用于调节通过设备的电流，通常作为计算机和其他电子产品中的常见组件之一，包括电子汽车中使用的功率转换器等。

声明指出，吴某和至少另外一个在通用工作了7年多的通用电气工程师合谋，从通用公司窃取有关MOSFET的商业机密和其他专有信息。吴某和“一号共犯”（#1）涉嫌利用这些商业机密来制定商业计划，在制作相关PowerPoint演示文稿后，将其兜售给潜在投资者。

两人还告诉潜在投资者，他们的业务可以在三年内实现盈利，并且据他们预估，其初创公司所含有形资产和无形资产价值1亿美元。根据其策划，他们要求获得约3000万美元的资金，以换取其初创公司的所有权股份。

起诉书称，2017年8月，吴某和“一号共犯”在中国会面，并向一家中国投资公司做了陈述，该公司正考虑为其创业公司提供资金。

据《南华早报》消息，联邦调查局奥尔巴尼办事处（FBI Albany Field Office）正在调查此案，但尚不清楚，被称为“一号共犯”的这名工程师的身份为何迟迟没有得到确认。

目前，暂时没有证据表明吴姓香港商人将MOSFET技术非法转让给任何一家中国公司，包括吴某和其合作伙伴试图开创的公司。因此，暂未对其进行逮捕，如经后期调查，罪名成立，则他将面临最高10年监禁和最高25万美元的罚款。

美国司法部高级官员约翰·德莫斯(John C. Demers)谴责吴某和他的同伙“选择偷窃他们因缺乏时间、才能和金钱去创造的东西。”他指出，企图让别国公司获利而窃取美国知识产权、剥夺美国公司的劳动成果的非法行为将受到美国司法部的竭力阻止。

根据领英（LinkedIn）页面个人资料显示，自2015年2月以来，吴某一直在东莞市天域半导体科技有限公司（Dongguan Tianyu Semiconductor Technology Co., Ltd.）工作，担任该公司的销售副总裁。

信息显示，在加入该公司后，他主要负责针对碳化硅铸造厂、设计公司和芯片制造商的碳化硅外延产品的市场营销和销售运营，访问了包括日立（HITACHI）、通用电气（GE）、罗姆半导体集团（ROHM Semiconductor）等多家主要客户。

值得一提的是，不光是美国即将生效的新规，打着所谓的“中国威胁美国国家安全”为由，封杀涉及技术的商业交易，就在一周前，曾多次污蔑中国“窃取知识产权”的美国候任CIA局长威廉·伯恩斯（William Burns）就曾放下狠话，称将把和中国的竞争和对抗作为任期内的核心工作。对此，中国外交部发言人作出回应称，中美关系不是你输我赢的零和游戏，不能片面以分歧来定义中美关系。希望美方能够摒弃零和思维，客观、理性看待中国和中美关系。

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