光刻机国产化消息不佳，还需要加大烧钱_风闻

原创 前HR本人 前HR随笔 今天

半导体产业还是要加大投入！最近一些新闻说中国28nm光刻机没有通过商用验收，实际情况如何，不知道具体官方信息。说28nm光刻机不是很严谨，通常应该是193nm光刻机在浸液环境下实现28nm产品的。

但是有一个信息是确认的，就是ASML公司表示，公司预计其产品在中国的需求依然强劲，2021年销售额将达到约20亿欧元，收入来自逻辑芯片代工和内存芯片客户。而且，ASML的CFO表示他们现在满负荷生产还无法满足客户要求，预计在中国营收这样的数字水平会维持下去、乃至有增长，所以明年的销售也是相当强劲的。

也就是说，AMSL一年在中国营收就20亿欧，如果考虑ASML的高毛利，一年在中国赚的毛利超过10亿欧元，这个利润要是中国企业自己投到光刻机，相当于1年70多亿元，连续投几年估计就成了，因为中国光刻机累计研发投入都不到10亿欧元。

光刻机需要多路前进，类似新冠肺炎疫苗一样，可能不能吊死在一个公司，否则如果长时间难以突破也是很要命的。

这个事情还是要大基金战略投入，分技术分子项目分包给各个子公司，并搭建测试线，实现原位替换是最好的。

28nm以下光刻机的四大领域中镜片、双工台、光源、工作液。除了双工台之前突破，国内在28nm的镜片、光源和工作液都是全新的，研发起来工作确实比较多。但是核心还是投入不够，如果钱够多，就可以搞足够多的人才和子项目组，多路径饱和攻击，最终哪个冲破技术门槛哪个团队就胜出。

另外，要有一、二条完整的测试线，随时给国内厂家进行同位替换测试，通过大基金不计成本投入才行。目前什么技术美国人都卡，对中国是巨大的风险，特别是考虑到统一台湾肯定会带来一系列经济斗争问题更是急不可待了。

最近看到吉林省将推进10项前沿领域技术攻关项目，其中包括由中科院长春光机所承担的EUV光刻技术，那就非常棒了。当然还差适用于EUV光刻机的镜片技术要突破，这个需要中科院专项投入。

当然，除了ASML外，业界光刻机厂商是日本佳能和尼康，他们的技术水平在浸液模式下也到了12-14nm。中国可以大量挖他们人才过来，特别是那些退休工程师和专家，日本退休专家很多有家庭矛盾，到中国来发挥余热是很棒的。

中芯CEO赵海军说半导体制造端至少还有5倍的产能成长空间。那半导体设备这个值得更多投入，特别美国人卡脖子的光刻机等设备，卡什么就重点投入什么。

可能像搞光伏产业链一样，搞个10年就差不多了，其中要有大量烧钱的游戏，剩者为王！