【翻译】中国克服半导体劣势，或者美国克服稀土劣势，那种努力更可能成功？_风闻

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中国克服半导体劣势，或者美国克服稀土劣势，那种努力更可能成功？

本文译自Quora，原标题：Which effort is more likely to succeed? China’s effort to overcome semiconductor disadvantage viz US? Or US’ effort to overcome rare earth disadvantage viz China?

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Robert Quek

former Retired. Prior Employment in Finance Sector，Lived in Lived in Singapore

前退休人员，曾在金融部门工作，生活在新加坡

两者都能成功。

稀土一点也不稀有。只是因为提取矿物的过程非常污染环境，所以美国才一直乐于购买精炼稀土，让中国承担污染的后果。处理稀土的技术也并不是什么尖端科技，因此，美国的问题在于它是否愿意承担污染。

但它更愿意避免这种做法，并试图通过鼓励其他国家这样做，以使其稀土来源多样化。澳大利亚就是一个例子，它也不想承担污染的后果。一家澳大利亚公司在马来西亚建立了一家稀土加工厂，但它很快就意识到了污染问题。由于其没有能使当局满意的任何解决方案，该公司已被指定了终止经营的日期。

中国对美国半导体禁运的反应是提高自己的产量。中国实施的战略不仅仅在于芯片，而是意图构建整个供应链。来自政府的鼓励是显而易见的，其形式包括联合研究、资助、订立合同、共同投资等，几乎在一夜之间就有数千家新的私营公司在技术领域涌现。

美国的禁运包括芯片、美国的技术和设备，以及其他国家拥有的使用这些技术和设备的公司。影响最严重的是高端芯片，比如智能手机中的5nm芯片。华为的手机业务因此而一落千丈，在6月份推出其专有的HarmonyOS之后，该公司正试图重新在中国获得市场份额。由于美国的长臂管辖，ASML无法将其出售给中芯国际的光刻机订单发货。

但中国已经具备了生产低端芯片，如14nm和24nm芯片的能力，这些芯片是其他行业（尤其是汽车行业）使用得最多的芯片。仅仅中芯国际就与政府实体联合投资了近200亿美元新建了4家工厂（上海（2）、深圳和北京）来生产14纳米和24纳米芯片。根据一份报告称，其14nm的工厂能够使用一种光刻替代技术生产7nm芯片。

据报道，许多在华外国公司已采取措施在技术和设备方面“去美国化”。中国是一个巨大且富有的市场，没有人想失去它。

继续来说稀土和半导体。稀土贸易仍在继续，对中国的稀土企业没有影响。而美国的半导体供应商对美国的禁令不感兴趣，它们提出了许多豁免申请，因为失去中国市场是痛苦的。

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Bill Sze

“根据一份报告称，其14nm的工厂能够使用一种光刻替代技术生产7nm芯片。”，这是一份来自中国的新闻稿，未经独立验证，也没有基于这种技术的设备正在计划中。如果这一替代方案随时可用，中芯国际将立即建设7nm晶圆厂。

“据报道，许多在华外国公司已采取措施在技术和设备方面“去美国化。中国是一个巨大且富有的市场，没有人想失去它”。这不适用于核心技术来自美国的EUV 光刻机，因为ASML无法将美国技术从EUV光刻机中剥离。ASML完全垄断了EUV光刻机，因此，除非已经谈论了十年的替代技术现在出现并改变局面，否则中国的处境仍将十分艰难。

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Robert Quek（答主）

我相信中芯国际的报告。我同意达到7nm并不容易，但这并不意味着它现在就应该建立一个单独的7nm工厂。它有自己的战略，它目前在建的4个工厂需要大量熟练的人力和人才。我认为，中国希望确保能够优先为其产业提供最普遍使用的芯片。

ASML是荷兰而不是美国的公司。我了解到，该公司董事长对美国的禁运感到不安，因为这将意味着它将失去价值数十亿美元的销售额，很可能还会在中国制造一个竞争对手。换句话说，他尊重中国的能力。

当然，这是一个艰难的局面，但中国在它之前的处境更为糟糕。

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Bill Sze

我对7nm芯片的理解是它需要EUV光刻技术。中国的半导体制造瓶颈不仅仅在于缺少EUV光刻技术，它还缺一些技巧。三星和英特尔可以获得他们想要的所有技术，但它们还是无法像台积电那样制造先进的芯片。与美国对中国稀土材料的依赖相比，中国突破并解决对外国半导体的依赖是一个更加困难的任务。

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Robert Quek（答主）

我没有技术方面的背景。以下是Quora网友Felix Su在2020年9月发布的内容。

中芯国际可以使用台积电发明的多图案工艺（multi-patterning process），在不使用EUV光刻机的情况下印刷7nm晶圆。这需要更长的时间，因为您必须让晶圆多次通过机器。中国正试图在步进式光刻机（stepper）技术方面赶上美国，他们已经宣布他们在步进式光刻机（stepper）内使用激光进行印刷设计方面取得了突破，可以做到5nm。德国也生产不使用美国技术的步进式光刻机（stepper），而且他们急于进入中国市场。

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