台积电5nm晶圆预估价曝光：接近17000美元_风闻

来源：内容由半导体行业观察（ID：icbank）编译自「tomshardware」，谢谢。

毫不奇怪，每一种新的制造技术的出现，都会让晶圆变得越来越昂贵，因为节点往往需要更多的资金。台积电最新的N5（5nm）制造工艺在每片晶圆上显得特别昂贵，因为它是新晶圆，但其晶体管密度使其特别适合具有高晶体管数量的芯片。

著名的半导体博客作者RetiredEngineer发布了一张表格，其中列出了台积电在2020年每个节点的假想芯片销售价格。。

该模型基于假想的5nm芯片，该芯片大小为Nvidia P100 GPU（610 平方毫米，907亿个晶体管，强度为148.2 MTr / mm2）。就每个图案化的300毫米晶圆的晶圆代工销售价格而言，该模型考虑了诸如CapEx，能耗，折旧，组装，测试和封装成本，晶圆代工营业利润率以及其他一些因素。同时，每个芯片的代工厂销售价格还包括设计成本，但是这个数字因公司而异，并且因节点而异（即，不同公司的610平方毫米的 5nm设计成本不同，并且610平方毫米芯片的实现方式也有所不同）由于设计规则和IP的不同，每个节点之间也是如此），因此应谨慎对待。

据估计，台积电使用N5技术处理的300mm晶圆售价约为16,988美元。相比之下，这家全球最大的半导体合同制造商对使用其N7节点图案化的300mm晶圆的价格约为9,346美元，对于使用16nm或12nm技术制造的300mm晶圆的价格为3,984美元。

有许多因素使台积电的N5节点如今使用起来如此昂贵。首先，台积电在几个月前开始生产5nm芯片，其晶圆厂及其使用的设备尚未贬值；其次，N5在很大程度上依赖于极紫外光刻技术的使用，并且最多可以在14层上使用。根据ASML的说法，每月每个大约45,000个晶圆的开始，一个EUV层就需要一个Twinscan NXE步进扫描系统。据信，每个EUV光刻机的成本约为1.2亿美元，而且这些扫描仪的运行成本也相当高。鉴于台积电的规模，其N5技术需要大量此类光刻机。因此，台积电要折旧N5所用的晶圆厂和设备将花费一些时间。

但是，即使按当前成本计算，由于其高晶体管密度和性能，对于高度复杂的芯片制造商来说，使用台积电的领先工艺也很有意义。根据提供的数字，使用N5制造610平方毫米芯片的成本为238美元，而使用N7生产相同芯片的成本为233美元。在16 / 12nm节点上，同一处理器将大得多，制造成本为331美元。与N7相比，在N5时，芯片不仅会相对较小（更精确地说为610平方毫米），而且在给定功率下运行速度也会快15％，在给定频率下功耗也会减少30％。

台积电（TSMC）表示，其N5的寿命同时具有比N7更低的缺陷密度，因此芯片设计人员可以预期，最终基于N5的芯片的产量通常会高于基于N7的IC。考虑到N5用EUV单图案替代DUV多图案的事实，后者是值得期待的。

在节点之间进行这种比较时要记住的一件事是，尽管它是基于台积电和整个半导体行业的数据，但台湾巨头从未确认过实际数字，因此它们可能不是100 ％准确。