联合国报告称中国研发投入首超日本 成为世界第二

环球网记者赵小侠报道，据外媒消息，联合国11月14日从总部日内瓦发表的名为《2011年世界知识产权报告——创新新面貌》的报告显示，中国已超越日本，成为世界第二大工业研究与开发投入国，名次仅在美国之后。

据英国路透社和美国《福布斯》杂志11月15日综合报道，根据联合国属下的一个专门机构“世界知识产权组织”发表的首份报告，在2009年，中国在研发领域中的投资额增加，占全球总投资额的12.8%，比1993年的2.2%高出许多。在中国企业和国家资助的大专学府推动下，中国轻易追上德国、法国、英国，在研发项目中投下的巨额资金，远远超过这几个20年前名列前茅的国家。报告补充说，这几个西方投资大国，占全球研发投资总额的比重全都下跌。

中国申请专利以及商标数量激增

世界知识产权组织报告也指出，中国申请专利以及商标的数量激增，目的是为了保护投入巨资所研发出来的新产品。美国依旧居全球首位，在研发项目上的投资额所占的比重虽然下降了3.4个百分点，但还是远远超过排在第二名的中国，在全球的比重为33.4%，是中国的2.5倍以上。

商业精英一致认为“中国重视创新和知识产权保护”

本周在美国亚利桑那州举行的“世界经济合作与发展论坛（Techonomy 2011）”上，全球出名IT咨询公司“思特沃克”中国区总经理肖国（音）、全球企业网络产品领先供应商思科公司首席战略官内德·胡珀等多位商业精英一致认为，中国已经将“创新”作为国家头等大事，并进行了必要的投资。然而，这种理念并不是基于过去几年实施的“宏伟计划”，而是迅速而密集的实验。中国将“最具潜力领域的不确定性”看成加速的原因，而不是退缩的借口。

报道称，中国收入水平升高，消费也随之增加，因此，这个国家处处都是机遇。中国企业争取在全球范围进行发展，中国政府也越来越重视知识产权保护。现在美国企业已被允许更加广泛地参与到中国社会之中。

责任编辑：乌元春